集束イオンビーム
| イオン銃 | Ga液体金属イオン源 | 
|---|---|
| 加速電圧 | 15~30kV | 
| 倍率 | 75~300,000倍相当 | 
| スキャンローテーション | 0~359.9° | 
| 最大操作範囲 | Max. 2.4×2.4mm2 | 
| 像分解能 | 7nm | 
| ビーム径 | 12~384nm | 
| 試料サイズ | Max. 50×50×8tmm | 
| イオン銃 | Ga液体金属イオン源 | 
|---|---|
| 加速電圧 | 15~30kV | 
| 倍率 | 75~300,000倍相当 | 
| スキャンローテーション | 0~359.9° | 
| 最大操作範囲 | Max. 2.4×2.4mm2 | 
| 像分解能 | 7nm | 
| ビーム径 | 12~384nm | 
| 試料サイズ | Max. 50×50×8tmm |