研究設備

集束イオンビーム

イオン銃 Ga液体金属イオン源
加速電圧 15~30kV
倍率 75~300,000倍相当
スキャンローテーション 0~359.9°
最大操作範囲 Max. 2.4×2.4mm2
像分解能 7nm
ビーム径 12~384nm
試料サイズ Max. 50×50×8tmm