堀 勝 (Masaru HORI)
| 部門 | エネルギー・環境研究開発部門 (兼任) |
|---|---|
| 所属研究科等 | 未来社会創造機構 |
| 所属専攻・分野等 | 堀・関根研究室 |
| 研究室名等 | 堀・関根研究室 |
| 研究内容 | プラズマ、ラジカル、ナノ材料、材料加工 |
| 所在地 | 〒464-8603 名古屋市千種区不老町 |
| 居室 | ES総合館4階425号室 |
| hori(at-mark)nuee.nagoya-u.ac.jp | |
| 詳細URL | http://horilab.nuee.nagoya-u.ac.jp/ |
主要研究内容
低温プラズマを用いた材料加工技術は、半導体デバイス製造をはじめ、機械・電子部品の処理、新規材料合成など様々な分野において利用され、欠かすことのできない基盤技術となっています。堀研究グループでは、この低温プラズマ技術においてプラズマと材料表面の反応を原子レベルで計測・制御し、Si集積回路、自動車に使用される機械部品のコーティングや表面処理、ナノグラフェンに代表されるナノカーボン材料の高速合成、次世代パワーデバイスとしての応用が期待されるGaNデバイスのプロセス技術高度化などの実現を目的として、研究を行っています。
主要研究論文
- T. Hagino, H. Kondo, K. Ishikawa, H. Kano, M. Sekine, M. Hori:Ultrahigh-Speed Synthesis of Nanographene Using Alcohol In-Liquid Plasma, Appl. Phys. Express Vol. 5, DOI: 10.1143/APEX.5.035101 (2012).
- H. Inui, K. Takeda, K. Ishikawa, T. Yara, T. Uehara, M. Sekine, and M. Hori:Hydrophobic treatment of organics against glass employing nonequilibrium atmospheric pressure pulsed plasmas with a mixture of CF4 and N2 gases, J. Appl. Phys. 109, pp. 013310-1:6 (2011).
- R. Kometani, K. Ishikawa, K. Takeda, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori: A High-Temperature Nitrogen Plasma Etching for Preserving Smooth and Stoichiometric GaN Surface, Appl. Phys. Express Vol. 6, DOI: 10.7567/APEX.6.056201 (2013).