集束イオンビーム

イオン銃 | Ga液体金属イオン源 |
---|---|
加速電圧 | 15~30kV |
倍率 | 75~300,000倍相当 |
スキャンローテーション | 0~359.9° |
最大操作範囲 | Max. 2.4×2.4mm2 |
像分解能 | 7nm |
ビーム径 | 12~384nm |
試料サイズ | Max. 50×50×8tmm |
イオン銃 | Ga液体金属イオン源 |
---|---|
加速電圧 | 15~30kV |
倍率 | 75~300,000倍相当 |
スキャンローテーション | 0~359.9° |
最大操作範囲 | Max. 2.4×2.4mm2 |
像分解能 | 7nm |
ビーム径 | 12~384nm |
試料サイズ | Max. 50×50×8tmm |